PVD技术为主流镀膜方法,具体是指在真空条件下采用物理方法,将某种物质表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体过程,在基板材料表面沉积具有某种特殊功能的薄膜材料,根据操作技术可分为溅射镀膜和真空蒸发镀膜两种方法。
PVD镀膜材料用以制备各种具有特定功能的薄膜材料。主要的下游应用领域包括平板显示器、半导体功能器件、太阳能电池、光学元器件等。
一般来说电镀加工厂主要采用防护方法,非金属或金属外表金属化后的外表怎么采用上色、染色或其他外表精饰处理,以保证外表精饰的效果可以耐久。真空电镀加工厂常用的方法便是外表涂装,通常是选用透明的涂料对精饰后的外表进行防护。这样一来既可以坚持外表精饰的颜色,又可以提高外表的耐蚀和耐磨功用。但有些涂料本身有必定光泽度,所以这种外表防护也叫罩光处理。
电镀加工厂严峻履行工艺规范,一是优化电镀各项工艺。这样能在很大水平上减小镀层变色的倾向。例如,防止镀后清洗不良、电流密度过高、镀液温度偏高,都有利于防止镀锡层发黄。
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