在电极电位偏离平衡电位不远时,电流密度很小,金属离子在阴极上还原的数量不多,吸附原子的浓度较小,而且晶体表面上的“生长点”也不太多。因此,电镀厂分析吸附原子在电极表面上的扩散距离相当长,可以规则地进人晶格,晶粒长得比较粗大。
金属电结晶时,同时进行着晶核的形成与生长两个过程。这两个过程的速度决定着金属结晶的粗细程度。如果晶核的形成速度较快,而晶核形成后的生长速度较慢,则形成的晶核数目较多,晶粒较细,反之晶粒就较粗。这时会严重污染环境,尤其是酸、碱气雾,青化物和铬雾对环境的影响和人体危害会更大。晶核的形成速度越大于晶核的生长速度,镀层结晶越细致、紧密。提高电结晶时的阴极极化作用可以加速晶核的形成速度,便于形成微小颗粒的晶体。在一般情况下,电镀中常常提高电结晶时的阴极极化作用以增加晶核形成速度,从而获得结晶细致的镀层。
1、提高阴极电流密度。一般情况下阴极极化作用随阴极电流密度的增大而增大,镀层结晶也随之变得细致紧密。在阴极极化作用随阴极电流密度的提高而增大的情况下,可采用适当提高电流密度的方法提高阴极极化作用,但不能超过所允许的上限值。
2、加入络合剂。在电镀厂生产线上,能够络合主盐中金属离子的物质称为络合剂。由于络离子较简单离子难以在阴极上还原,从而提高阴极极化值。
电镀铜是使用广泛的为了改善镀层结合力而做的一种预镀层,铜镀层是重要的防护装饰性镀层铜/镍/铬体系的组成部分,柔韧而孔隙率低的铜镀层,对于提高镀层间的结合力和耐蚀性起重要作用。铜镀层还用于局部的防渗碳、印制板孔金属化,并作为印刷辊的表面层。模具化学镀工艺,化学镀是利用还原剂把电解质溶液中的金属离子化学还原在呈活性催化的工件表面沉积出能与基体表面牢固结合的涂镀层。经化学处理后的彩色铜层,涂上有机膜,还可用于装饰。本文中我们将介绍电镀铜技术在PCB工艺中遇到的常见问题以及它们的解决措施。
酸铜电镀常见问题
硫酸铜电镀在PCB电镀中占着极为重要的地位,酸铜电镀的好坏直接影响电镀铜层的质量和相关机械性能,并对后续加工产生一定影响,因此如何控制好酸铜电镀的质量是PCB电镀中重要的一环,也是很多大厂工艺控制较难的工序之一。酸铜电镀常见的问题,主要有以下几个:1。电镀粗糙;2。电镀是首饰生产过程中应用非常广泛的,,就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一层其他金属或合金的过程,使金属或其它材料制件的表面附合着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化,提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性从而增进美观等作用。电镀(板面)铜粒;3。电镀凹坑;4。板面发白或颜色不均等。针对以上问题,进行了一些总结,并进行一些简要分析解决和预防措施。
金属存在哪些情况会影响到连续电镀的质量连续电镀对金属而言,是表面加工,是对金属的表面进行处理,在处理完成后能够保证金属的表面效果以及美观度,电镀,同时金属的很多特性和功能都能够有所提高,从而提高了金属的实用性,化学镍电镀,也保证了金属的质量。
在进行连续电镀处理之前,需要对金属的表面进行一些除尘的处理,同时还需要针对性的做好检查,因为金属的表面如果存在一些特殊的情况,会影响后期电镀的质量和结果。例如金属表面出现脱皮的现象,这样电镀的过程中就无法真正的保证镀层是附着在金属的表面,也不能够保证附着的强度。在电镀厂家加工过程中,电镀加工活动的好坏受到大家的关注,电镀加工的流程也是不断完善。同时如果在金属的表面存在一些污渍或者是粘胶,那么镀层同样无法直接附着在金属表面,所以无法保证金属的质量。
金属在实际使用过程中,会出现摩擦的现象,但是如果在表面出现大面积的刮伤,这样的金属就无法真正的实现连续电镀,而且会影响到电镀是质量。因此在对金属进行电镀处理之前,需要对金属进行处理,保证不会出现影响电镀结果的情况发生。
青化物镀银为什么采用钾盐而不采用钠盐?
青化物镀银已有一百多年的历史,各种用途的配方比较齐全,但从每种配方的成分可知,青化镀银电解液都是由青化钾配制而成的,为什么青化银不采用青化钠配制电解液呢?
长期的实践证明,钾盐比钠盐具有许多独特的性质。
(1)钾盐电解液比钠盐电解液的电导率高,电流密度也高,整个电流密度范围也比钠盐电解液高。
(2)用钾盐配制的电解液中所产生的碳酸钾具有较高的溶解度,采用钠盐配制电解液,槽液中碳酸钠超过609/L,就会使银层的结晶粗糙,而采用钾盐配制电解液,碳酸钾浓度可上升到909/L,也不会产生有害影响。
(3)钾盐电解液的阴极极化作用比钠盐电解液稍高,分散能力较强,镀层结晶细致。
(4)从钾盐电解液中获得银层的纯度及物理性质比钠盐电解液好。
(5)钾盐比钠盐的含硫量少(极微量),镀银层的含硫量也相对减少,提高了银层的抗变色能力。
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