内层干膜包括内层贴膜、曝光显影、内层蚀刻等多道工序。内层贴膜就是在铜板表面贴上一层特殊的感光膜,就是我们所说的干膜。这种膜遇光会固化,在板子上形成一道保护膜。曝光显影是将贴好膜的板进行曝光,透光的部分被固化,没透光的部分还是干膜。然后经过显影,褪掉没固化的干膜,将贴有固化保护膜的板进行蚀刻。早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工。再经过退膜处理,这时内层的线路图形就被转移到板子上了。
曝光显影
1、蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。
早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工;通过曝光显影,露出要焊接的盘与孔,其它地方盖上阻焊层,防止焊接时短路丝印字符将所需的文字,商标或零件符号,以网板印刷的方式印在板面上,再以紫外线照射的方式曝光在板面上。经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。
2、曝光就是光圈、快门和感光度ISO的组合。
其中光圈和速度联合决定进光量,ISO决定ISOCCD/CMOS的感光速度。
3、显影包括正显影和反转显影。
正显影中显影色粉所带电荷的极性,与感光鼓表面静电潜像的电荷极性是相反的,反转显影中感光鼓与色粉电荷极性是相同的。
东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺,平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工,有多年经验,有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈,可免费打。
曝光显影
1、蚀刻:利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路。
2、曝光:经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板(即PCB)上。
3、显影:通过碱液作用,将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。
不锈钢蚀刻预处理,主要是对不锈钢原材料进行清洁,保证蚀刻前不锈钢上没有灰尘,油污,水渍,锈迹以及瑕疵等问题,以免影响后期曝光显影的准确性,蚀刻后影响产品品质,所以不锈钢预处理是非常重要的。东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺,平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工,有多年经验,有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈,可免费打。
曝光显影
曝光一般是在紫外光照射下,光引发剂吸收光能分解成游离基,游离基再引发不聚合单体进行聚合交联反应,反应后形成不溶于稀碱溶液的体型大分子结构。曝光一般在自动面曝光机内进行,现在的曝光机根据光源的冷却方式不同分为风冷和水冷两种。曝光成像质量除干膜光致抗蚀剂的性能外,光源的选择,曝光的时间(曝光量)的控制,照相底板的质量等都是影响曝光成像质量的重要因素。缺点:蚀刻面不均匀,大面积腐蚀速度慢,不能用于量产,也不能做凸字大面积蚀刻,不能用做标牌的大批量生产加工。
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