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曝光显影工厂服务为先「利成感光」蓝色土耳其歌词

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最后更新: 2024-01-05 15:30
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8分钟前 曝光显影工厂服务为先「利成感光」[利成感光38dbdb8]内容:

东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺,平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工,有多年经验,有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈,可免费打。

显影的主要过程如下:对准曝光一曝光后烘一显影一坚膜一显影检测。

坚膜( HB Hardbake)

坚膜也称为硬烘,是对显影后的光刻胶加热烘干,促使光刻胶与硅片粘着牢固,并且没有发生形变。坚膜阶段的温度一般控制在100-120℃之间,若加热温度过高会使得光刻胶软化,如图4所示,并导致后期去胶困难。

一般使用热板或烘箱来控制温度变化。

东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺,平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工,有多年经验,有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈,可免费打。

PCB曝光工艺和半导体工艺曝光工艺条件不一样,PCB通常是贴合式曝光,曝光是没有距离的,但现在的盖板是3D曲面盖板,它的曝光,通常来说MASK它跟产品有一定的距离,这个距离会造成一定的偏差,所以它的工艺是有难点的。

东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺,平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工,有多年经验,有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈,可免费打。

蚀刻:蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻的原理是氧化还原反应中的置换反应:2AgNo3+Cu=Cu(No3)*2+2Ag。利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路。显影的主要过程如下:对准曝光一曝光后烘一显影一坚膜一显影检测。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。

曝光:经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板(即PCB)上。

蚀刻曝光就是通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。

显影:显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中,让影像显现的一个过程。通过碱液作用,将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。

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