半导体产业是现代电子工业的核心，而半导体产业的基础是硅材料工业。虽然有各种各样新型的半导体材料不断出现，但90%以上的半导体器件和电路，尤其是超大规模集成电路（ULSI）都是制作在高纯的硅单晶抛光片和外延片上的。硅片清洗对半导体工业的重要性早在50年代初就已引起人们的高度重视，这是因为硅片表面的污染物会严重影响器件的性能、可靠性、和成品率。化工设备和化学品接触的太多，特别是一些经常和高度腐蚀的化学品接触的设备，更应及时清洗，化工设备清洗要做的工作有哪些。
要确保符合标准的水源的供给，通常应当用自来水，水源不可以含杂质或酸性及碱性。还有一点要注意的是，尽量避免连接盛水容器供水的方式，特别是没有动力吸水装置的高压清洗机，应当保证高压泵里的供水充足，如果不具备条件自来水供水，用水箱供水的话，那么水箱要高出清洗机5米，确保有足够的水位差压力，以便供水畅通。要明白一个原则，高压清洗机在运转过程中，若供水不足，就可能损坏高压泵等零部件。产品的设计、制造都是围绕今后使用的便利性和对抗复杂环境为目的。
清洗机的发展也应该坚持结合国内的实际现状,不能盲目跟从国外的发展,技术也可以引进,但是创新能力是无法引进的,必须依靠自身的积聚,才能使清洗机能更好的走下去。清洗机厂家要转变生产、管理模式,顺应信息、网络新环境。清洗机要想发展,就要坚持自己的创新,在生产中不断的积累经验,才能使清洗机不断的提升性能,每一个清洗机的生产厂家都应该有自己的优点,优于别人才能销量高于别人。以上就是关于工业设备清洗的方法介绍了，对于不同的设备和要求我们会根据上述的方法进行一些改变，从而让我们有更好的效果，而且对于清洗的一些化学方法和物理方法我们也需要正确的去选择。
工业清洗机工业清洗基本按照您的零件材质，工艺要求来决定选用水基清洗还是溶剂清洗。一般清洗洁净度要求不高的话，就选用水基清洗。如果对于清洗洁净度要求很高，并且您的零件有很多细缝和盲孔的复杂几何体的话，应该需要使用溶剂清洗。
溶剂清洗的话，您需要选用环保的全封闭金属零件清洗机，不管是四溶剂还是碳氢溶剂都是VOC溶剂，也就是都是挥发性，按照环保标准，都必须使用单槽的全封闭设备。目前市场上的多槽式的设备都是开放式系统，因为在槽缸之间转换时是充分暴露在大气中的，这是不安全和环保的设备。工业设备在清洗时，它的电机的电流会比额定高5-6倍的，不但会影响电机的使用寿命而且消耗较多的电量。