气相沉积与金属喷镀不同，气相沉积不受视线阻碍，需镀膜的产品，其所有的表面皆会被气体单体紧密覆盖，而达到精细均匀、高质量的镀膜表层。
对于腐要求的粘结钕铁硼磁体如果使用时（包括装配，焊接）温度不超过130度可以选择采用，特别是对于小规格磁体不适用电泳的条件下具有很高的效率和良好的抗腐蚀能力，可以满足盐雾120小时。
派瑞林（parylene）材料本身的阻挡特性远优于其它高分子涂层，作为一种阻挡层可有效地防止各种阴阳离子的扩散迁移，从而可靠地保护产品；派瑞林（Parylene）涂层工艺有效阻止了离子在涂层和产品基板界面的扩散，大大减少了常见的涂层内腐蚀。
派瑞林（parylene）材料作为涂层，派瑞林（parylene）超薄、无孔隙、均匀、同形性好、耐腐蚀、与人体组织及血液相容等一系列优点,使其在生物医学领域应用广泛, Parylene不仅提供了惰性、生物相容的隔离层，可有效防止外界的化学品、水分和体液的侵蚀,同时增加了器件表面的干润滑性和绝绿性能。
Parylene是20世纪60年代中期美国联合碳化物公司开发的一种分子级敷型涂层材料，是的聚对二(poly-P-xylylene)聚合物系列的通用名称，根据分子结构的不同，可分为Parylene N、C、D、HT、F型等多种类型。
Parylene N是一种很好的介电材料，具有非常低的介质损耗、高绝缘强度以及不随频率变化的介电常数。它是所有Parylene中穿透能力高的一种，有很好的自润滑性，摩擦系数为0.25。符合ISO-10993生物试验要求，符合UDP第六类塑料的生物试验要求。
离子源类型虽多，目的却无非在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。若是镀工具耐磨层，一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高，可采用离子电流较大能级也较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。
阳极层离子源，与霍尔离子源原理近似。在一条环形（长方形或圆形）窄缝中施加强磁场，在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长，特别适合镀大工件，如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散，且能级分布太宽。一般适用于大型工件，玻璃，磨损，装饰工件。但应用于光学镀膜并不太多。